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而且，就算是930μm/h，那也是远高于现在四十三所制备金刚石薄膜的40μm/h的。

更不要说930m/h了。

相比之下，一个的速度就是火箭，另一个则是自行车。

或许连自行车都算不上。

也是因为这种告诉生长的速率，这种方法一度成为热点方法。

制备工艺的话，也并不复杂。

主要就是在杆状阴极和环形阳极之间施加直流电压，当气体通过时引发电弧，加热气体，高温膨胀的气体从阳极嘴高速喷出，形成等离子体射流。

引弧的气体通常是氩气，等形成等离子体射流后，通入反应气体甲烷和氢气，甲烷和氢气被离化，并达到水冷沉积台的衬底，在衬底上成核、生长金刚石薄膜。

而且这种方法制备金刚石薄膜，不禁速度快，而且质量高，还无电磁污染。

但是，由于喷射等离子体的速度场合温度场不均匀，使其沉积范围内膜厚不均，会呈梯形分布。

在沉积速度过快时，膜的表面不平整，就会大大降低膜的致密度。

看到这，陈舟古怪的笑了笑：“看来，太快了也不好……”

但是整体来说，这种方法还是很有研究潜力的。

陈舟在草稿纸上做着记录，并把自己的想法记在一旁。

把DAPCVD法的相关文献看完后，陈舟右手滑动鼠标，点开了一个新的PDF文件。

最后一个制备方法。

微波等离子体CVD法，也就是MPCVD法。

是四十三所所采用的的方法。

也是陈舟查这么文献的目的。

和DAPCVD法被报道的时间，仅相隔一年。

这也是目前用于沉积金刚石薄膜最为广泛的方法。

这种方法最先是通过一种轴向的天线耦合器，将25W的矩形微波进行导转换，在大气压下形成等离子体。

而高压等离子体就会由耦合器的“针孔”处喷射到水冷的样品台上，继而形成金刚石薄膜。

和DAPCVD法使用的气源相同，主要是氩气，反应气体是甲烷和氢气。

现如今，这种方法已经形成了多种形式。

不过不管是按真空室的形成来分的石英管式、石英钟罩式和带有微波窗的金属腔体式，还是按微波与等离子体的耦合方式来分的表面波耦合式、直接耦合式和天线耦合式。