子手机连八十线厂商都不如。

尼玛，资本亡我之心不死！

“……有没有什么其他办法？”

问出这个问题，罗离也知道不会有答案。

根本不可能。

当资本企业联盟决定实行芯片垄断的那一刻起，就已经堵死了所有生路，除非你能自己搞出来。

罗离第一反应就是查阅系统。

打开兑换列表，在一长串密密麻麻的兑换商品种，罗离找到了芯片制造相关的科技。

排除“虚空系列”、“反物质”、“负相粒子光能”这种一听就买不起的东西，罗离直接将列表拉到最下来。

然后，他就看到了自己收藏夹中躺了两个多月的3nmEUV光刻机——

以及后面长达10厘米的“0”……

罗离：“……”

3nmEUV光刻机，太特么贵了！

贵到价格只能用“厘米”来形容。

就尼玛离谱！

罗离果断放弃了，这东西绝对不是现阶段可以买得起的！

然后他将目光锁定到5nm级别……这次是8厘米。

淦，放弃放弃！

然后是7nm……

14nm……

……

全部看完，罗离彻底无奈了。

以他目前的系统积分，居然只能买得起130nm级别的光刻机！还特么是DUV光源！！

DUV光刻机和EUV光刻机能比？

寒碜谁呢？

DUV光刻机大多采用的是波长为193nm级别的氟化氩准分子激光，或者波长为248nm的氟化氪准分子激光，单次曝光的极限制程在128nm到90nm之间，多次曝光虽然可以将精度提升至最高28nm，但却是以牺牲良品率为代价！

几乎每重复一次曝光，损坏的几率就增加一倍……靠DUV光刻机想要造出28nm制程芯片，至少需要曝光5次以上！

先不说你连续曝光五次最终能成功几个，就算成功了，28nm也远远解决不了钉子现在的危机。

更别提暴增的材料成本了。

光刻工艺的核心资源是一种叫做光刻胶的化学合成剂，这东西在国内也无法制造。

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