这个思路有点像当初的智商税。

随着tft-lcd市场的打开，tft-lcd的产能，也会迎来一个全面爆发的过程。

在原来的历史上，到94年底，世界上兴建了21条tft-lcd产线，它的产能总数，高达每个月63万片。其中新增的产能，是54万片。

这个市场空白的绝大多数，都需要《全彩科技》去填补。以现在的2号线为参照，哪怕其良率为100%，双班制生产，也需要54条新线！而每条线的设备采购款，高达1.5亿人民币。

由于lcd产能爆发引起的半导体设备采购款项，就高达了80亿人民币！这还是不考虑2代线的造价更高等因素的保守估计。

晶圆产业的投资，就要着落在这里了。

————————

“一号工程，有没有具体目标啊？”

“初步的思路，是在93-94年间，建设一个2微米的小型晶圆厂，然后通过技术进步，逐步升级到1微米进程。”

叶静经过几个月的辛苦工作，最后选定了lele路线作为光电下一步技术演进方向。

《多图案技术》在这个时代，其难度比纳米时代，小得不是一点半点。小数点后少了两个零的精度，导致在纳米时代，大家最头痛的衍射，对准等问题，都不是大问题。

lele与samp相比，各有千秋。lele的主要弊端，是它有分图片校准的问题。

samp是一种自校准技术，所以在初期，它的优势还是非常明显的。但它只适用于对称图形，适用面很窄。

它的优点和缺点都非常明显，这也是intel在14nm先拔头筹，但在10nm迟迟无法通关的主要原因。相信intel最后也会走到lele这条道路上。

晶圆厂的投资，也跟产能，晶圆尺寸有很大关系。由于这个晶圆厂的核心目的，就是验证《多图案技术》技术在实际生产线上的应用。没有必要搞得过于庞大。这条产线的设计技术目标，只有2微米，3寸晶圆，月产万片而已。

至于这条产线的工艺设计，成永兴就不准插手了，毕竟这种级别的晶圆，国内的技术已经完全成熟。

————————

“然后在95-96年，再建一条正式线。它的技术指标，瞄准的是0.5微米。”

其实在成永兴心中，真正瞄准的是0.微米。