第九十四章 光刻机比想象的容易

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“我们正在攻克的最后一项技术难题,就是锡滴的击打频率问题。”

蒲伟才也道:“我们已经解决了连续击打问题,但每秒最多重复5000次,不过我们的能量利用率更高,只需做到每秒重复2万次,就有足够使用的光照强度了。”

“所以我们的能量利用率不是没有意义,每秒2万次比每秒5万次,明显容易实现多了。”

“每秒2万次……”

卫明沉吟了一下,道:“还缺什么条件,阻止你们达到这个频率?”

“精度,控制系统的精度。”

蒲伟才说道:“如同一个时钟,同时精确掌控2万滴锡滴的自由下落,以及4万次的击打,时间上,每秒内的误差,不得超过十亿分之一秒;距离上,每秒不能超过1纳米,并且还要设计一套‘偏差纠正’系统,只要误差累积过大,就会自动纠正,让系统长期稳定的运转下去。”

“目前我们正在全力攻克控制系统,纠偏系统稍稍靠后,但也安排了团队进行攻关。”

“当然如果从岛国进口的相关零件,很快能到我们手中,可能三个月内,我们就能实现击打频率突破2万次。”

岛国?

三个月?

卫明摇头笑了笑,道:“缺什么零件,就交给我吧,我给你们捣鼓出来。”

接着他连续捣鼓了三天时间。

激光频率控制器。

高灵敏距离感应器。

还有这个什么器,那个什么装置,以及卫明叫不出专业名称的东西。

三天内他一共搞了十几个。

然后让蒲伟才他们,把这些装置,塞入到控制系统中,以极高精度要求,组装到了一起。

再开启了试运行。

“释放锡滴,初始频率每秒1滴。”蒲伟才进行指挥说道。

“开始释放。”

“两次击打成功,摊平形状完美,激发效果完美!”

“增加释放频率。”

“每秒50次试验成功。”

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