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他只能慢慢的想办法。

七月底的时候，克莱斯特的第一台光刻机终于造了出来。

这台落后了国外最先进工艺好几代的光刻机，却比目前国内最先进的还要牛叉，因为目前国内只有申城微电子处于90nm水平，代表的是自家SMEE200系列光刻机。

其它的像影幻半导体公司、芯硕半导体公司都只能够拥有200nm工艺的光刻机量产能力。

关于制程方面的东西，其实非常的复杂。

林冬到现在都还没搞明白。

他只知道目前晶体管技术节点的数字大约是130nm、90nm、65nm、45nm、32nm、22nm、14nm、10nm、7nm……是一个大约以0.7为比的等比数列。

但这已经是很古老的计算方式了。

现在，这只是一个命名的习惯，跟实际尺寸已经有差距了。

28nm这个节点，其实不属于前面提到的标准，但是这个技术节点，直到现在，仍然在半导体制造业界占据了很大的一块市场份额。

湾积电、华芯国际等这样的大代工厂，都是在28nm上玩得很转的。

这个制程还远远没有到淘汰的时候，至少算得上是中端。

为什么呢？

因为，这个节点被证明是一个在成本、性能、需求等多方面达到了比较优化的组合的一个节点，很多芯片产品，并不需要使用过于昂贵的FinFET技术，28nm能够满足自己的需求。

所以，当克莱斯特能够造出28nm的光刻机，才会得到一众大佬的青睐。

比如华夏手机，如果他们有能力自产28nm芯片，就可以大大减少代工需求的比例，从而降低中低端手机的成本，获得更多的利润。

其他，华芯国际、申城微电子等加盟方，目的大同小异。

他们几家联合在一起，就代表着华夏整体最先进的芯片技术，还包括人才、设备、专利等等。

如果单凭克莱斯特自己造这个光刻机，估计得造十年八年。

第一台，克莱斯特自己拿走了。

大家无话可说。

有一就有二啊，一回生二回熟嘛，二胎生起来更容易。

但是抢的也多。

好在大家都是有身份地位的公司，而光刻机的出厂速度还算能够满足大家的需求，就算等也只是等十几天的事情。

克莱斯特的第一台其实不是给自己要的。