七个人挨个聊了一遍，最后仓耀祖找上了杰克袁，他主要是要交代杰克袁一些事，仓耀祖希望杰克袁联络一下加州大学伯克利分校的胡正明教授。

胡正明被半导体行业誉为“FinFET之父”，仓耀祖找上他，正是要委托他研究一下FinFET技术，目标是解决25纳米之后半导体器件的微细化问题，这个技术的专利仓耀祖必须拿在手里，FinFET技术的细节仓耀祖会整理出一个文档交给胡正明教授，想必这项技术的研发就不会拖那么久了，今年就应该能搞定。

仓耀祖还想以这个研发项目为由，让胡正明教授去燕都一段时间，仓耀祖希望能把胡正明老爷子请去清微半导体担任技术负责人。

胡正明教授前几年还是清大的荣誉教授，仓耀祖希望这次把合作夯实再夯实，把合作深入下去，而不是浮于表面。要知道挖到胡正明教授，不止在技术上好处多多，仓耀祖非常想挖的一个人就是胡教授的关门弟子梁孟松。

梁孟松是湾湾人，研发实力超强，号称半导体行业的吕布，之所以叫吕布，自然是因为他多次叛门跳槽，台积电、三星、华芯国际都留下了他的传说。

现在的梁孟松在台积电并没有那么醒目，还没出什么成绩，把他挖到清微半导体或者山腰科技都是不错的选择，反正留给台积电或者三星可就是严重资敌了，那可就十分不好了，仓耀祖可不想给自己增加难度。人情、金钱、股份齐上，不惜代价也要拿下他啊。

除了胡正明教授这个FinFET之父外，仓耀祖想要挖的还有两个人，一个是华夏刻蚀机之父尹志尧，一个就是林本坚。

刻蚀机不说了，虽然没有光刻机重要，但也是半导体行业不可或缺的重要设备。光刻机、刻蚀机和薄膜沉积设备是芯片制造过程中的三大核心设备，如果把芯片比作一幅平面雕刻作品，那么光刻机是打草稿的画笔，刻蚀机是雕刻刀，沉积的薄膜则是构成作品的材料。

光刻的精度直接决定了元器件刻画的尺寸，刻蚀和薄膜沉积的精度则决定了光刻的尺寸能否实际加工，因此光刻、刻蚀和薄膜沉积设备是芯片加工过程中最重要的三类主设备。

那一世，直到2004年尹志尧才回国创建了中微半导体，这一世，仓耀祖希望提前促成这件事情，嗯，缺人挖人，缺钱投钱，砸也砸出一个刻蚀机头部企业。

而林本坚，他就是那一世台积电如厮强横的一大保证了，仓耀祖教给清微半导体的浸入式光刻技术就是林本坚提出并坚持推动的结果。

其实浸入式光刻技术在1984年就由日本人Takanashi在一项美国专利中提出了，他定义了浸入式光刻机最基本的结构特征，即在最后一级物镜与光刻胶之间充入一层透明的液体。

发明专利的时效只有20年，只可惜这项专利诞生的“过早”，前世真正意义上的浸入式光刻要在若干年后才会出现，Takanashi也因此与巨额专利费擦肩而过。<

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